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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆开发厂靠近豫东位置,主要产出84英寸半导体行业晶圆,单日化工废水污染物量约800吨。鉴于产出步骤中运用丰富氢氧化钠开展晶圆蚀刻,造成的化工废水下氟化物酸度达到200-300mg/L,远超国污染物规范标准(10mg/L以内)。 污水含量及起源 废水处理方法主要的来于几个要素: 晶圆蚀刻工艺程序 :含浓度较高值氟化物(HF)、盐酸及少许天价属 物理机械化磨光(CMP)废液 :含微米级硅颗料、有机会络合剂 系统擦拭化工废水 :含异丙醇、氯离子等有机会物 整理艺鑫霖环保流程 用于"检查是否结晶自己+沥青混凝土结晶自己+纵深滤过"3级处里机系统: 七级进行处理 :加药系统氯化钙和氢阳极氧化钙,建立氟化钙悠长岁月中,氟化物出掉率达85% 中级正确处理 :添加图片PAC(缩聚氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),去掉溶液态感染物 三級解决 :按照多媒介筛选器和催化活性炭纤维吸附性,水流氟化物渗透压维持在8mg/L左右 关键点机器以及:pH电脑自动转换系统、斜管滤渣池、板框刮刀离心机(废水烘干)。 进而作用 投资项目操作5年监控信息提示: 氟化物一般浓度值:7.2mg/L(如果低于国家地区要求) COD消除率:92% 生活污水含水分率:≤65% 年收废氟化钙副好产品约150吨,确保影视污泥处置巧用

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