芯片厂酸性废气怎么处理方法|芯片厂酸性废气处理案例
一、电源芯片厂酸碱性废水简介
集成电路芯片制造厂全过程中会带来过多含酸性烟粉尘,核心来自于于刻蚀、清洁、传播等鑫霖环保重要环节。某些烟粉尘营养成分非常复杂,一般而言分为下类类型:
氟化物(HF、SiF₄等)
:最主要出于刻蚀技艺,存在强腐化性和渗透性。
氯化氢(HCl)
:熟悉于刷洗和刻蚀具体步骤,溶解于水产生含酸性饱和溶液。
磷酸雾(H₂SO₄)
:最好用于晶圆冲洗,有机废气物中含体积小液滴,易进行酸雾。
氮腐蚀物(NOx)
:那部分低温方法会引发NOx,极具畅快性且易造成光普通机械烟雾报警器。
某些烟气一方面金属腐蚀设配,会不会对环境从而造成为严重污染源,为此要经由高效率的操作方能直接排放。
二、酸碱性烟粉尘操作薄弱环节与关键
(1)治理关键点
化学成分繁琐
:其他加工过程引发的的废气物质对比大,需面性欲望治理。
盐浓度下跌大
:生产制造具体步骤中废液的占有量下跌不平稳,对治理 系统的满足性条件高。
腐化性强
:弱酸性气取得被氧化供水管道和系统,需配用耐被氧化原料。
排放口标准化要严
:集成电路芯片厂一般 需满意《大气质量环境破坏物整体排出的标准》(GB 16297-1996)等规范要。
(2)正确处理思路
预治理
:选取自喷塔或干井式树脂吸附剔除大颗粒肥料物和个部分偏酸其他气体。
中心除理
:普遍湿式干洗(碱液与)、吸附剂法(灵活性炭吸附、原子筛)或然烧法(RTO)。
后工作
:除雾仪器弄掉小液滴,确保达到标准减排。
智力化的控制
:立即监测数据废气排放溶度,调节办理参数表以从而提有有效率。
三、著名案例分析分析
案例库1:某时代国际电源芯片大公司氟化氢(HF)烟气办理顶目
废气排放性能
:
常见物质:HF(含量50-200mg/m³)、微量分析SiF₄
新风量:20,000m³/h
温湿度:常温下
治理计划书
:
两极自喷吸取
:
弟一级主要包括NaOH液体喷淋头,删去大部位HF。
第十二级用Ca(OH)₂饱和溶液进步净化水,制成CaF₂水解。
除雾控制系统
:便捷纤维板除雾器我们要除带出液滴。
定时化保持
:pH再线监测方案,自己投药保持结合吸收率。
进行处理郊果
:
HF排卸密度<1mg/m³,我们要除率>99%。
设计自动运行可靠,维护资金低。